振動樣品臺 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品詳細(xì)介紹：可適用于高真空條件下對粉體材料的表面包覆鍍膜實(shí)驗(yàn)(更新日期2019.1.11）產(chǎn)品型號振動樣品臺產(chǎn)品特點(diǎn)1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部2、粉末放...
微型PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體，內(nèi)部設(shè)有加熱圈對樣品進(jìn)行加熱，溫度可以達(dá)到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機(jī)...
鈣鈦礦鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜...
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等）和小分子的有機(jī)物
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡介：GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及進(jìn)行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)的單位
掩膜版 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品詳細(xì)介紹：適用于鍍膜設(shè)備的配套使用產(chǎn)品型號掩膜版主要特點(diǎn)不銹鋼材質(zhì)，需要根據(jù)客戶的實(shí)驗(yàn)要求加工定制(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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